氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得。
氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得。
輝納-氮化鈦(TiN)涂層的特性
薄膜厚度：<=8um
摩擦系數(shù)：<0.4
薄膜硬度：=<25GPa (~HV2500)
最高使用溫度：600°C
薄膜顏色： 金黃色
工藝溫度： 180~400°C
涂層結構： 納米單層/復合
氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得，第一種為磁控濺射方式獲得，第二種為陰極電弧方式獲得，兩種方式各有優(yōu)缺點，磁控濺射方式獲得的涂層硬度較低，但是顆粒細膩，表面光潔度好。印記電弧方式獲得的涂層，表面硬度高但顆粒度大，而且表面缺陷比較多，通常需要進行鍍后拋光處理。